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3er. TALLER TRINACIONAL SOBRE PATRONES DE MEDIDA Y NORMAS PARA LAS NANOTECNOLOGÍAS
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| Centro Nacional de Metrología (CENAM), Febrero 12, 2009. |
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Objetivos:
- Compartir experiencias e información sobre los advances en normas y patrones de medida para las nanotecnologías entre los interesados de Canadá, EUA y México.
- Promover el desarrollo oportuno de patrones de medida, normas e infraestructura para atender las necesidades de la industria y de los gobiernos de América del Norte para facilitar la innovación, la obtención de trazabilidad metrológica, el control de procesos y la calidad en la manufactura de productos ligados a la nanoescala.
- Dar consideración especial a los temas de salud y seguridad de la sociedad, incluidos los aspectos laborales, y los riesgos al consumidor por el uso de productos con base nanotecnológica.
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